La jeune pousse chinoise Langdao Silex a exposé le 15 octobre 2026 à Shanghai une source de lumière EUV qu’elle annonce à plus de 15 W, avec 90 % de composants chinois. Les équipements de lithographie EUV en production exigent plusieurs centaines de watts. Et le prototype a été présenté sans être mis en marche.
15 W annoncés face aux plusieurs centaines de watts exigés en usine
Le prototype s’appelle FlintNano LPP-OXXO. Selon les spécifications publiées par l’entreprise, il repose sur un laser d’entraînement de 1 000 W fonctionnant de 1 kHz à 20 kHz, avec un rendement de conversion supérieur à 2 %, une puissance EUV de sortie supérieure à 15 W, une brillance de 100 W/(mm²·sr), une étendue de 1 × 10⁻³ mm²·sr et un plasma de 60 micromètres de diamètre. L’ordre de grandeur industriel est ailleurs : les équipements commerciaux réclament des sources de plusieurs centaines de watts, et ASML a introduit des sources de classe 250 W pour la production commerciale en 2018 et 2019, avec un objectif affiché de 1 000 W.
Une source exposée à la foire de Shanghai, mais jamais allumée
La démonstration a eu lieu sur le stand de l’entreprise à la 26e China International Industry Fair, à Shanghai. Langdao Silex a été fondée en 2024 par des anciens du laboratoire de plasma à décharge gazeuse de l’université Tsinghua. La technologie est celle que l’industrie utilise déjà : des gouttelettes métalliques chauffées sont bombardées par des impulsions laser de forte énergie, le plasma obtenu rayonne dans l’extrême ultraviolet. Le taux de composants domestiques de 90 % a été donné par du personnel présent sur le stand, cité par le quotidien Jiefang Daily et repris par TrendForce : « un taux de contenu domestique de 90 %, la plupart des composants essentiels étant développés en interne ». Selon Tom’s Hardware, la source a été exposée sans être allumée.
Le point où la puissance est mesurée change le résultat
C’est la réserve technique la plus lourde. Tom’s Hardware relève que Langdao Silex semble mesurer la puissance au niveau du plasma, et non après le collecteur ou au foyer intermédiaire, là où ASML publie ses chiffres. L’entreprise n’a pas démontré de système complet de collecte de la lumière, sans lequel la puissance utile en sortie de machine reste inconnue. Même remarque pour la fiabilité : le fonctionnement continu de plus de 100 heures, la stabilité de plasma de 3 % RMS et la stabilité de puissance de 5 % sont annoncés par la seule entreprise, et aucune vérification indépendante n’est possible en l’état.
Trois à cinq ans annoncés, et plus de 800 fournisseurs chez le concurrent
TrendForce indique que la production de masse est annoncée à trois à cinq ans. Selon EE Times China, les obstacles restants sont l’augmentation de la puissance de sortie et l’amélioration de la stabilité sur la durée. Surtout, une source de lumière ne fait pas un scanner : TrendForce rappelle qu’un système EUV d’ASML compte des centaines de milliers de composants fournis par plus de 800 fournisseurs. Langdao Silex annonce par ailleurs une source de forte puissance, FlintMicro-LPP, qui aurait passé une validation de principe, mais sans publier ni puissance, ni rendement, ni durée de vie, et travaille aussi sur l’inspection de résines photosensibles et de masques.
Les 15 W replacés dans vingt ans de sources EUV
Comparé aux tout premiers équipements de démonstration occidentaux et japonais, le niveau annoncé n’est pas absurde. Il situe simplement le prototype chinois autour des années 2007 à 2012 de la filière, à ceci près que les conditions de mesure et les durées d’essai diffèrent, ce qui rend ces comparaisons très imprécises, souligne Tom’s Hardware.
| Source et date | Puissance EUV annoncée |
|---|---|
| Langdao Silex, FlintNano LPP-OXXO (2026) | Plus de 15 W, mesure apparemment faite au plasma |
| ASML, équipement de démonstration (2007) | Environ 10 W au foyer intermédiaire, source DPP |
| Cymer, premières NXE:3100 (2012) | Jusqu’à 11 W pendant l’exposition des plaquettes |
| Cymer (2013) | Environ 40 W au foyer intermédiaire sur longue durée |
| Gigaphoton (fin 2014) | 118 W sur un test de dix minutes |
| ASML, premières NXE:3400 | 125 à 150 W, déjà jugés insuffisants pour le volume |
| ASML, production commerciale (2018 et 2019) | Classe 250 W, objectif annoncé de 1 000 W |
La contrainte de départ, elle, ne bouge pas : faute de pouvoir acheter un scanner EUV à ASML, la Chine doit reconstruire la chaîne entière, dont cette source n’est qu’un maillon.
